光学薄膜制备简介

差之毫厘，失之千里。光学薄膜制备作为精密制造领域之一，其精密程度常常达到纳米甚至微纳级别，因此，其制备复杂程度是不言而喻的，有时候微小的失误会导致满盘皆输，为薄膜制备带来巨大困难。

光学薄膜的制备是一个复杂的过程，它是通过将大块固体材料蒸发或溅射，经过气相传输，最后在基板上凝结得到的，在其制备过程中，包括环境真空条件（真空度）、蒸发速率、基板温度等多面的工艺因素的影响，对薄膜的微观结构和化学成分与理想状况出现较大偏差，最终导致薄膜的机械性能、抗激光损伤阈值、光学性能的变化。

在众多的工艺影响因素中，影响最大且易观察的往往是薄膜的厚度均匀性，其会严重影响薄膜的物理性能，根据制备经验，薄膜的厚度不均匀会导致薄膜光谱性能产生较大偏移，比如，在增透膜的制备过程中会导致薄膜的透射率偏低，其次他还会影响薄膜的激光损伤阈值、薄膜应力等等，正如文头说到的：差之毫厘，失之千里。因此在薄膜制备设备中，往往都配有精确度极高的膜厚监控系统。

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